×
×
seller: МИНАТЕХ
Russia, Moscow, Tkatskaia st., 5s1
Установка совмещения и экспонирования MDA-400M с ручным управлением

Установка совмещения и экспонирования MDA-400M с ручным управлением

Установка совмещения и экспонирования MDA-400M с ручным управлением
check the price
retail & wholesale
in stock
☎ show phone
Установка - MDA-400M - производства  -MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением и PLC/PC контролем  - широко применяется для технологий изготовления -MEMS, -LED, -полупроводников и др. MDA-400M -- -это идеальный и экономичный вариант для исполь­зования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства Точность совмещения 1 мкм. - Обработка пластин до 100 мм (4 дюймов) Максимальный размер фотошаблона 127х127 мм (5х5 дюймов) Ручное совмещение и авто­матическое экспонирование. Особенности Прецизионная точность совмещения 1 мкм Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 6&rsquo-&rsquo- (150мм) Специальные держатели подложек (кусочков по запросу) Прецизионный столик для совмещения и микроскоп Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования Система для компенсации «-клина засветки»- на воздушных подшипниках Эргономичный дизайн для удобного исполь­зования Антивибрационный стол (опция) Низкая стоимость/высокое качество Обратное совмещение - IR BSA (опция) Управлене ручное Запросить брошюру в PDF Мощность лампы УФ источник света с мощностью 350 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения. Размер подложки кусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюйма Точность 1 микрон Разрешение 1 микрон, при исполь­зовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом) Размер маски до 5 х 5 дюймов УФ лампа 350 Вт. Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу. Размер однородного пучка 4,25" х 4,25" Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного поля -(80x -- -480x -увеличение, или 80-1000х по запросу), -CCD -камера Однородность пучка <- +/- 3% Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная -25 -мВт/см 2 Режи

Установка -MDA-400M -производства -MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением и PLC/PC контролем -широко применяется для технологий изготовления -MEMS, -LED, -полупроводников и др. MDA-400M -- -это идеальный и экономичный вариант для исполь­зования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства

Точность совмещения 1 мкм. -
Обработка пластин до 100 мм (4 дюймов)
Максимальный размер фотошаблона 127х127 мм (5х5 дюймов)
Ручное совмещение и авто­матическое экспонирование.

Особенности

  • Прецизионная точность совмещения 1 мкм
  • Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 6&rsquo-&rsquo- (150мм)
  • Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
  • Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
  • Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
  • Система для компенсации «-клина засветки»- на воздушных подшипниках
  • Эргономичный дизайн для удобного исполь­зования
  • Антивибрационный стол (опция)
  • Низкая стоимость/высокое качество
  • Обратное совмещение - IR BSA (опция)
  • Управлене ручное
Запросить брошюру в PDF

Мощность лампы УФ источник света с мощностью 350 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Размер подложки кусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюйма
Точность 1 микрон
Разрешение 1 микрон, при исполь­зовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом)
Размер маски до 5 х 5 дюймов
УФ лампа 350 Вт.
Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу.
Размер однородного пучка 4,25" х 4,25"
Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного поля -(80x -- -480x -увеличение, или 80-1000х по запросу), -CCD -камера
Однородность пучка <- +/- 3%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная -25 -мВт/см2
Режим управления с ПК -(PLC -контроль)
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 -сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по -z ±- 10 мм или другой по запросу) и по углу &theta- (±- 5°-)
Выравнивание Компенсация ошибки клина
Методы экспонирования Мягкий -контакт, -жесткий контакт, -вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором -(регулируемое 1 мкм)
Стол Антивибрационный стол
Опции ИК опция обратного совмещения -(IR BSA), Датчик интенсивности УФ излучения, модуль -UV-LED -излучения (365 нм), модуль засветки для УФ и глубокого УФ


id позиции 5406036

Установка -MDA-400M -производства -MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением и PLC/PC контролем -широко применяется для технологий изготовления -MEMS, -LED, -полупроводников и др. MDA-400M -- -это идеальный и экономичный вариант для исполь­зования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства

Точность совмещения 1 мкм. -
Обработка пластин до 100 мм (4 дюймов)
Максимальный размер фотошаблона 127х127 мм (5х5 дюймов)
Ручное совмещение и авто­матическое экспонирование.

Особенности

  • Прецизионная точность совмещения 1 мкм
  • Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 6&rsquo-&rsquo- (150мм)
  • Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
  • Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
  • Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
  • Система для компенсации «-клина засветки»- на воздушных подшипниках
  • Эргономичный дизайн для удобного исполь­зования
  • Антивибрационный стол (опция)
  • Низкая стоимость/высокое качество
  • Обратное совмещение - IR BSA (опция)
  • Управлене ручное
Запросить брошюру в PDF
Мощность лампыУФ источник света с мощностью 350 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Размер подложкикусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюйма
Точность1 микрон
Разрешение1 микрон, при исполь­зовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом)
Размер маскидо 5 х 5 дюймов
УФ лампа350 Вт.
Диапазон длин волн засветки350-450 нм, или другие по запросу.
Размер однородного пучка4,25" х 4,25"
Оптическое зрение (микроскоп)Микроскоп двойного поля -(80x -- -480x -увеличение, или 80-1000х по запросу), -CCD -камера
Однородность пучка<- +/- 3%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нмМаксимальная -25 -мВт/см2
Режим управленияс ПК -(PLC -контроль)
Регулируемое время экспонирования0,1 to 999,9 -сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложекМодуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по -z ±- 10 мм или другой по запросу) и по углу &theta- (±- 5°-)
ВыравниваниеКомпенсация ошибки клина
Методы экспонированияМягкий -контакт, -жесткий контакт, -вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором -(регулируемое 1 мкм)
СтолАнтивибрационный стол
ОпцииИК опция обратного совмещения -(IR BSA), Датчик интенсивности УФ излучения, модуль -UV-LED -излучения (365 нм), модуль засветки для УФ и глубокого УФ

id позиции 5406036
2009-2025 © All Rights Reserved
SHOPPING CART
×
ORDERING
×
Surname, First name (Patronymic): *
Full name not specified
Organization: *
Organization not specified
Email: *
Email is incorrect
Phone: *
Phone not specified
Address: *
Address not specified
Comment: (up to 512 characters)
* - required fields
Seller:
Shipping:
Payment:
Order items - , for the amount: 0
Check the final cost and conditions with the seller
By clicking the «SEND ORDER» button, I consent to the processing of personal data
Back to cart
Send order