Установка осаждения диэлектриков Depolab 200 PECVD

Установки плазменного осаждения диэлектриков - Depolab -200 - производства  -SENTECH Instruments GmbH (Германия)  -без вакуумного загрузо­чного шлюза. Система осаждения диэлектриков Depolab 200 (PECVD) производства -SENTECH Instruments GmbH -предназна­чен для исполь­зования в НИОКР для реализации процессов осаждения слоев SiO 2 , SiN x , SiON x на подложки размером до 200 мм в диаметре. -Установка выполнена без вакуумного загрузо­чного шлюза и имеет очень компактный дизайн и бюджетную цену. - Особенности Обработка пластин диаметром до 200 - Процесс: PECVD (SiO 2 , SiN x , SiON x ) Групповая обработка пластин Держатели для пластин меньшего размера Компактный дизайн и малая занимаемая площадь до 8 газовых линий Программное обеспечение SENTECH control software - - Возможность апгрейда вакуумным загрузо­чным шлюзом (опция) Возможность установки турбомолекулярного насоса (опция) OES и лазерная интрферометрия, in-situ эллипсометрия LF генератор (смешивание частот для стресс-контроля) Запросить брошюру в PDF Модель установки Depolab 200 Диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм. Реактор - AlMgSi 0.5 -материал камеры Электрод подложки Диаметр электро­да 240 мм Температурный контроль в диапазоне 200 о С - 400 о С. Верхний электрод алюминиевый электрод с газовым душем диаметр душевой системы - 218 мм RF электрод, 13,56 МГц Опция: LF генератор 300-500 кГц для смешивания частот Вакуумная система - <- 10-2 mbar, - форвакуумный насос - Опционально: турбина -<-10-5 mbar антикоррозионное исполнение Газовые линии до 8 газовых линий с MFC и фильтрами и отсечными клапанами RF/ LF генератор ВЧ генератор 13,56 МГц, 300 Вт., воздушное охлаждение авто­матическое согласование LF генератор 300-500 кГц, до 1250 Вт для смешивания частот Контроль SENTECH control software Опции - Более производительная вакуумная