Установка совмещения и экспонирования MDA-400LJ с ручным управлением

Бюджетная -установки MDA-400LJ - производства -MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением применяется для технологий изготовления MEMS, оптоэлектро­ники и др. MDA-400LJ - это идеальный и экономичный вариант для исполь­зования в лаборатории для проведения НИОКР и для малых объемов производства. - Точность сомещения 1 мкм. - Обработка пластин до 100 мм. Ручное совмещение и ручное экспонирование. Особенности Прецизионная точность совмещения 1 мкм Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 4&rsquo-&rsquo- (100мм) Специальные держатели подложек (кусочков по запросу) Прецизионный столик для совмещения и микроскоп LED источник УФ излучения для экспонирования с длиной волны 365 нм. Антивибрационный стол (опция) UV-NIL (опция) - Эргономичный дизайн для удобного исполь­зования Низкая стоимость/высокое качество Лампы UV-LED источник света с контролем интенсивности и мощности излучения с длиной волны 365 нм. (для i-line резистов) Размер подложки Кусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюйма Точность 1 микрон Разрешение 1 микрон, при исполь­зовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм) Размер маски До 5 х 5 дюймов Оптическое зрение Микроскоп двойного поля 1.4x~9x, двойной монитор Размер однородного пучка 125 мм в диаметре Однородность пучка Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная -10 -мВт/см 2 Режим управления Полностью - ручной Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 - сек с шагом 100 мс Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z, по осям х,у±- 5 мм) и по углу &theta- (±- 4°-), -движение по оси z - 10 мм Выравнивание Компенсация ошибки клина Методы экспонирования Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (ре