×
Эллипсометр лазерный SE 400adv
Лазерный эллипсометр SE 400adv SE 400adv - новейший лазерный (сканирующий) эллипсометр производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Измерение нанопленок. Длина волны - 632,8 нм Диапазон измерения толщины пленк: 1 нм до 6000 нм. Применение: Измерение толщины и коэффициента преломления единичных слоев или двухслойных пленок (с известными параметрами подслоя) в производстве или лаборатории. Особенности Высокая стабильность и точность при измерении с источником света (HeNe лазер, 632,8 нм.), термостабилизированный компенсатор, управление поляризатором, детектор сверх низких шумов. Высокая точность выравнивания образца (регулировка по высоте и углу наклона) с помощью автоколлиматического телескопа (АСТ). Полностью интегрированная поддержка для многоугловых измерений с продвинутым программным обеспечением SENTECH. Полный пакет предустановленных применений в микроэлектронике, фотовольтаике (солнечные элементы) и др. Дружественный интерфейс и легкость работы. Высокая скоростьизмерений Программное обеспечение SENTECH для проведения эллипсометрических измерений, включающее в себя библиотеку приложений n, k массивного материала толщина монослоев толщина и индекс преломления монослоев толщина и индекс преломления верхнего слоя двойного слоя заданные эллипсометрические приложения Опции: - 30 мкм микроспот (фокусировка пятна) - Столик с ручной регулировкой x-y (перемещение - 150 мм) для картирования (mapping) - Моторизованные столики с компьютерным управлением для обрацов диаметром до 200 мм и перемещением с высокой точностью для меппинга (картирования) - Видеокамера для выравнивания образца взамен окуляра с выводом изображения и РС. - Жидкостная ячейка - Автофокусировка в комбинации с моторизованным столиком для выравнивания образцов - Рефлектометр (Film Thickness Probe) FTPadv с диаметром пятна 80 мкм. - ПО для иммитационного моделирования (SIMULATION Software) - Установка для измерений пленок на кристаллическом кремнии (текстурированном)
ХарактеристикиИсточник и длина волны 632,8 нм HeNe лазер (< 1 мВт) Точность измерения ψ и ∆: 0,002о , 0,002о Точность измерения толщины пленки: 0,01 нм на 100 нм SiO2на Si Точность измерения индекса преломления: 5х10-4 на 100 нм SiO2 наSi Диапазон измерений для прозрачных пленок: до 6000 нм Диапазон измерений для слабоабсорбирующих слоев(полисиликон): до 2000 нм. Время измерения 10 мс – 1с (зависит от режима измерений) Диаметр светового пятна около 1 мм Угол падения луча света Ручной гониометр 40 – 90о, шаг установки 5о Выравнивание образца, фокусировка Автоколлиматический телескоп (АСТ) Лазерный эллипсометр SE 400adv SE 400adv - новейший лазерный (сканирующий) эллипсометр производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Измерение нанопленок. Длина волны - 632,8 нм Диапазон измерения толщины пленк: 1 нм до 6000 нм. Применение: Измерение толщины и коэффициента преломления единичных слоев или двухслойных пленок (с известными параметрами подслоя) в производстве или лаборатории. Особенности Высокая стабильность и точность при измерении с источником света (HeNe лазер, 632,8 нм.), термостабилизированный компенсатор, управление поляризатором, детектор сверх низких шумов. Высокая точность выравнивания образца (регулировка по высоте и углу наклона) с помощью автоколлиматического телескопа (АСТ). Полностью интегрированная поддержка для многоугловых измерений с продвинутым программным обеспечением SENTECH. Полный пакет предустановленных применений в микроэлектронике, фотовольтаике (солнечные элементы) и др. Дружественный интерфейс и легкость работы. Высокая скоростьизмерений Программное обеспечение SENTECH для проведения эллипсометрических измерений, включающее в себя библиотеку приложений n, k массивного материала толщина монослоев толщина и индекс преломления монослоев толщина и индекс преломления верхнего слоя двойного слоя заданные эллипсометрические приложения Опции: - 30 мкм микроспот (фокусировка пятна) - Столик с ручной регулировкой x-y (перемещение - 150 мм) для картирования (mapping) - Моторизованные столики с компьютерным управлением для обрацов диаметром до 200 мм и перемещением с высокой точностью для меппинга (картирования) - Видеокамера для выравнивания образца взамен окуляра с выводом изображения и РС. - Жидкостная ячейка - Автофокусировка в комбинации с моторизованным столиком для выравнивания образцов - Рефлектометр (Film Thickness Probe) FTPadv с диаметром пятна 80 мкм. - ПО для иммитационного моделирования (SIMULATION Software) - Установка для измерений пленок на кристаллическом кремнии (текстурированном)
Характеристики
Competitor's products
|
|||||||||||||||||||||||||||||
2009-2025 © All Rights Reserved
|
|