Вакуумная установка - NexDep - произвдства - Angstrom Engineering Inc. (Канада) -- гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика. - Система - Nexdep -может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене. Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, -ионное асистирование. Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере. - - - Процессы: резистивное термическое испарение -(resistive thermal evaporation) - магнетронное напыление -(magnetron sputtering deposition) электронно-лучевое испарение -(electron beam evaporation) ионное напыление -(ion-assisted deposition) Особенности Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 200 мм с заданием различной скорости вращения держателя ø-400мм x 475мм высотой -D-образной формы камера с закрепленной на петлях дверью. Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция) Различные варианты исполнения камеры по высоте для процессов ЭЛИ Дизайн согласно требованиям заказчика к процессам Поддержка нескольких разных -PVD -процессов в одной камере. 600мм х 1000мм - площадь занимаемая системой Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов. Процесс последовательного или параллельного -(co-deposition) -напыления. Контроль вакуума и вакуумная система: - Автоматический форвакуумный насос - Сухие насосы (опция) - Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом (крионасос - опция) - Пневматически воздушный фильтр Управление процессом осаждения: - -теневая маска и выравнивание подложки - легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса - датчики скорости осаждения для контроля
Вакуумная установка -NexDep -произвдства -Angstrom Engineering Inc. (Канада) -- гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика. -
Система -Nexdep -может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене.
Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, -ионное асистирование.
Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере. - - -
Процессы:
резистивное термическое испарение -(resistive thermal evaporation) -
магнетронное напыление -(magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение -(electron beam evaporation)
ионное напыление -(ion-assisted deposition)
Особенности
- Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 200 мм с заданием различной скорости вращения держателя
ø-400мм x 475мм высотой -D-образной формы камера с закрепленной на петлях дверью.
Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция)
- Различные варианты исполнения камеры по высоте для процессов ЭЛИ
Дизайн согласно требованиям заказчика к процессам
Поддержка нескольких разных -PVD -процессов в одной камере.
600мм х 1000мм - площадь занимаемая системой
Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.
Процесс последовательного или параллельного -(co-deposition) -напыления.
Контроль вакуума и вакуумная система:
- Автоматический форвакуумный насос
- Сухие насосы (опция)
- Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом (крионасос - опция)
- Пневматически воздушный фильтр
Управление процессом осаждения:
- -теневая маска и выравнивание подложки
- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса
- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом
- конфигурация для реализации процесса соосаждения- -co-deposition -(параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)
- QCM -- изолированный -датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников
- -Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.
- Нагрев подложки, охлаждение и доп. смещение на подложку
- Планетарное вращение или GLAD держатель с изменением угла при напылении
Запросить брошюру в PDF
id позиции 5405991
Вакуумная установка -NexDep -произвдства -Angstrom Engineering Inc. (Канада) -- гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика. -
Система -Nexdep -может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене.
Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, -ионное асистирование.
Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере. - - -
Процессы:
резистивное термическое испарение -(resistive thermal evaporation) -
магнетронное напыление -(magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение -(electron beam evaporation)
ионное напыление -(ion-assisted deposition)
Особенности
- Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 200 мм с заданием различной скорости вращения держателя
ø-400мм x 475мм высотой -D-образной формы камера с закрепленной на петлях дверью.
Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция)
- Различные варианты исполнения камеры по высоте для процессов ЭЛИ
Дизайн согласно требованиям заказчика к процессам
Поддержка нескольких разных -PVD -процессов в одной камере.
600мм х 1000мм - площадь занимаемая системой
Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.
Процесс последовательного или параллельного -(co-deposition) -напыления.
Контроль вакуума и вакуумная система:
- Автоматический форвакуумный насос
- Сухие насосы (опция)
- Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом (крионасос - опция)
- Пневматически воздушный фильтр
Управление процессом осаждения:
- -теневая маска и выравнивание подложки
- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса
- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом
- конфигурация для реализации процесса соосаждения- -co-deposition -(параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)
- QCM -- изолированный -датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников
- -Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.
- Нагрев подложки, охлаждение и доп. смещение на подложку
- Планетарное вращение или GLAD держатель с изменением угла при напылении
Запросить брошюру в PDF
