×
Установка водоподготовки производство ультрачистой DI воды
Сегодня микроэлектроника &ndash- по-прежнему один из основных катализаторов научно-технического прогресса важнейших отраслей народного хозяйства. А уровень развития и объемы производства ее основных изделий &ndash- интегральных микросхем (ИМС) &ndash- во многом определяет оборонный, экономический и культурный потенциал страны. В общем случае производство интегральных микросхем можно разделить на три фазы: производство материалов, изготовление пластин, а также сборка с испытаниями и измерениями. Максимальное потребление высокочистой воды характерно для второго этапа, на котором проводится отмывка уже готовых пластин различной топологии. Высокие требования качеству подготовленной воды предъявляются также в производстве полупроводников, жидкокристаллических дисплеев. Проектирование и производство систем водоподготовки для получения ультрачистой воды для предприятий микроэлектроники как для производства так и для лабораторий. Конструкция оборудования с модульным принципом построения позволяет обеспечить выход по глубокообессоленной воде от -10 л/час до 1000 м3/час -и выше (до 18,2 МОм х см). Применяемые технологии позволяют обеспечить непрерывное производство высоко чистой воды со стабильным качеством. Применение установок непрерывной электродеионизации позволяет получать высокоочищенную воду практически без использования химреагентов. Не требуется нейтрализация кислот/щелочей или сменных ионообменников, так как технология электродеионизации позволяет на финишной стадии очистки заменить традиционный ионообмен. Соответственно, достигается снижение уровня эксплуатационных расходов по сравнению с ионным обменом. - id позиции 5406074 Сегодня микроэлектроника &ndash- по-прежнему один из основных катализаторов научно-технического прогресса важнейших отраслей народного хозяйства. А уровень развития и объемы производства ее основных изделий &ndash- интегральных микросхем (ИМС) &ndash- во многом определяет оборонный, экономический и культурный потенциал страны. В общем случае производство интегральных микросхем можно разделить на три фазы: производство материалов, изготовление пластин, а также сборка с испытаниями и измерениями. Максимальное потребление высокочистой воды характерно для второго этапа, на котором проводится отмывка уже готовых пластин различной топологии. Высокие требования качеству подготовленной воды предъявляются также в производстве полупроводников, жидкокристаллических дисплеев. Проектирование и производство систем водоподготовки для получения ультрачистой воды для предприятий микроэлектроники как для производства так и для лабораторий. Конструкция оборудования с модульным принципом построения позволяет обеспечить выход по глубокообессоленной воде от -10 л/час до 1000 м3/час -и выше (до 18,2 МОм х см). Применяемые технологии позволяют обеспечить непрерывное производство высоко чистой воды со стабильным качеством. Применение установок непрерывной электродеионизации позволяет получать высокоочищенную воду практически без использования химреагентов. Не требуется нейтрализация кислот/щелочей или сменных ионообменников, так как технология электродеионизации позволяет на финишной стадии очистки заменить традиционный ионообмен. Соответственно, достигается снижение уровня эксплуатационных расходов по сравнению с ионным обменом. -
Товары конкурентов
|
|||||||||||
2009-2024 © All Rights Reserved
|
|