Вакуумная установка - Covac II - произвдства - Angstrom Engineering Inc. (Канада) -- компактное экономичное решение подходящее для множества применений -вакуумного напыления для НИИОКР. - Установки серии - Covap II -предлагают компактное, экономичное решение подходящее для проведения процессов термического испарения и магнетронного распыления. Эта небольшого размера бюджетная установка позволит Вам легко найти место в Вашей лаборатории для ее установки. Построенная по высоким стандартам, - Covap II -конфигурируется устройством с обратной связью для управления процессами соосаждения, системой хранения рецептов и уникальной складной камерой для улучшенного доступа. Если Ваш процесс требует контроля окружающей среды, - Covap II -сконструирована таким образом, что на нее можно установить новый или существующий перчаточный бокс. Процессы: резистивное термическое испарение -(resistive thermal evaporation) - магнетронное напыление -(magnetron sputtering deposition). Особенности Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 100 мм с заданием различной скорости вращения держателя Вакуумный колпак системы позволяет легко открывать камеру для беспрепятственного доступа для снятия экранов (заслонок) и подготовки системы для следующего процесса. Конструкция готова к интегрированию в перчаточный бокс. Компактный дизайн 600 мм х 1000 мм (габариты размещения на полу) Возможность установки 2-ух или 4-х источников резистивного испарения Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов. Процесс последовательного или параллельного -(co-deposition) -напыления Контроль вакуума и вакуумная система: - Автоматический форвакуумный насос - Сухие насосы (опция) - Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом - Пневматически воздушный фильтр Управление процессом осаждения: - теневая маска и выравнивани
Вакуумная установка -Covac II -произвдства -Angstrom Engineering Inc. (Канада) -- компактное экономичное решение подходящее для множества применений -вакуумного напыления для НИИОКР. -
Установки серии -Covap II -предлагают компактное, экономичное решение подходящее для проведения процессов термического испарения и магнетронного распыления. Эта небольшого размера бюджетная установка позволит Вам легко найти место в Вашей лаборатории для ее установки.
Построенная по высоким стандартам, -Covap II -конфигурируется устройством с обратной связью для управления процессами соосаждения, системой хранения рецептов и уникальной складной камерой для улучшенного доступа. Если Ваш процесс требует контроля окружающей среды, -Covap II -сконструирована таким образом, что на нее можно установить новый или существующий перчаточный бокс.
Процессы:
резистивное термическое испарение -(resistive thermal evaporation) -
магнетронное напыление -(magnetron sputtering deposition).
Особенности
- Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 100 мм с заданием различной скорости вращения держателя
Вакуумный колпак системы позволяет легко открывать камеру для беспрепятственного доступа для снятия экранов (заслонок) и подготовки системы для следующего процесса.
Конструкция готова к интегрированию в перчаточный бокс.
Компактный дизайн 600 мм х 1000 мм (габариты размещения на полу)
Возможность установки 2-ух или 4-х источников резистивного испарения
Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.
Процесс последовательного или параллельного -(co-deposition) -напыления
Контроль вакуума и вакуумная система:
- Автоматический форвакуумный насос
- Сухие насосы (опция)
- Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом
- Пневматически воздушный фильтр
Управление процессом осаждения:
- теневая маска и выравнивание подложки
- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса
- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом
- конфигурация для реализации процесса соосаждения- -co-deposition -(параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)
- QCM -- изолированный кварцевый датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников
- Широкополосный источник 2,5 кВА для резистивное испарения обеспечивает возможность контроля и управления как для процессов требующих низких температур при напылении (органически пленки) так и для процессов напыления металлов, проходящих при высоких температурах.
- изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.
Запросить брошюру в PDF
id позиции 5405988
Вакуумная установка -Covac II -произвдства -Angstrom Engineering Inc. (Канада) -- компактное экономичное решение подходящее для множества применений -вакуумного напыления для НИИОКР. -
Установки серии -Covap II -предлагают компактное, экономичное решение подходящее для проведения процессов термического испарения и магнетронного распыления. Эта небольшого размера бюджетная установка позволит Вам легко найти место в Вашей лаборатории для ее установки.
Построенная по высоким стандартам, -Covap II -конфигурируется устройством с обратной связью для управления процессами соосаждения, системой хранения рецептов и уникальной складной камерой для улучшенного доступа. Если Ваш процесс требует контроля окружающей среды, -Covap II -сконструирована таким образом, что на нее можно установить новый или существующий перчаточный бокс.
Процессы:
резистивное термическое испарение -(resistive thermal evaporation) -
магнетронное напыление -(magnetron sputtering deposition).
Особенности
- Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 100 мм с заданием различной скорости вращения держателя
Вакуумный колпак системы позволяет легко открывать камеру для беспрепятственного доступа для снятия экранов (заслонок) и подготовки системы для следующего процесса.
Конструкция готова к интегрированию в перчаточный бокс.
Компактный дизайн 600 мм х 1000 мм (габариты размещения на полу)
Возможность установки 2-ух или 4-х источников резистивного испарения
Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.
Процесс последовательного или параллельного -(co-deposition) -напыления
Контроль вакуума и вакуумная система:
- Автоматический форвакуумный насос
- Сухие насосы (опция)
- Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом
- Пневматически воздушный фильтр
Управление процессом осаждения:
- теневая маска и выравнивание подложки
- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса
- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом
- конфигурация для реализации процесса соосаждения- -co-deposition -(параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)
- QCM -- изолированный кварцевый датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников
- Широкополосный источник 2,5 кВА для резистивное испарения обеспечивает возможность контроля и управления как для процессов требующих низких температур при напылении (органически пленки) так и для процессов напыления металлов, проходящих при высоких температурах.
- изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.
Запросить брошюру в PDF
