Установка плазменной очистки Nano

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano  -производства - Diener electronic (Германия) . Применение: - очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, -снятие и подчистка фоторезста мелкосерийное производство аналитика (SEM, TEM) медицина стерилизация исследования археология обработка текстиля полупроводники обработка пластиков Особенности Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров Вакуумный насос на выбор Датчик давления Pirani (опция) Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт. Управление: ручное или авто­матическое (PLC или PC) Газовые линии - до 3 шт. (игольчатые глапана или MFC) Скачать брошюру Nano в PDF Тип установки плазма низкого давления Вакуумная камера цилиндрическая, около 18 литров: -Ø- 240 мм, глубина 400 мм прямоугольная, около 24 литров: 240 х 240 х 420 мм Материал камеры Боросиликатное стекло или кварцевое стекло или нержавеющая сталь Подвод газа до 3-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC Генератор плазмы 40 кГц, до 1000 Вт 13,56 МГц, до 300 Вт 2,45 ГГц, до 600 Вт Контроль Ручной - PCCE-Control (Microsoft -Windows CE) - PLC PC-Control (Microsoft -Windows XPe) - PC Производительность вакуумного насоса сухой насос или лопастной по выбору Подключение 220 В, 50 Гц или 400В, 3 фазы (в зависимости от конфигурации) Видеопрезентация установки Nano Видеопрезентация фирмы Diener id позиции 5406004