Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели -MLA100 -производства -Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия). Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) -представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования -(MLA - Maskless Aligners). Установки бесмаскового совмещения и экспонирования серии -MLA -(Maskless Aligners) - -это высокопроизводительные системы прямого экспонирования специально разработанные для процессов совмещения и экспонирования без использования фотошаблонов (масок). Установки предлагают все возможности традиционной технологии совмещения и экспонирования для однослойных и многослойных применений и даже дают возможность преодолеть некоторые из ограничений фотошаблонной технологии. Установки -MLA -позволят избавиться от потребности в фотошаблонах и сокращает цикл производства, что существенно сокращает затраты на производство или исследования. Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии. Разработанная с акцентом на высокую производительность по доступной цене, установка MLA100 является идеальным решением для литографии многих приложений R &- D. Оптическая система, использующая высокоотражающие зеркали и DMDTM (Digital Micro Device) - предназначена для экспонирования структур размером до 1 мкм при скорости 50 мм²-/мин по фоторезисту, без необходимости использования фотошаблонов. Устранение фотошаблонов в литографическом процессе повысит гибкость и значительно сократит производственный цикл. MLA100 управляется мастер-программой (GUI), которая помогает оператору в течение всего процесса совмещения и экспонирования: загрузка подложки, выбор дизайна и экспонирование. Установка занимает малую площадь и требует только подключения электропитание и сжатого воздуха. Применение установки -MLA100: -медицина. -MEMS, -микрооптика, полупроводники, сенсоры, датчики, -MOEMS, -исследование материалов, нанотрубки, графены и др. Система может быть оснащена либо LED источн
Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели -MLA100 -производства -Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) -представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования -(MLA - Maskless Aligners).
Установки бесмаскового совмещения и экспонирования серии -MLA -(Maskless Aligners) - -это высокопроизводительные системы прямого экспонирования специально разработанные для процессов совмещения и экспонирования без использования фотошаблонов (масок). Установки предлагают все возможности традиционной технологии совмещения и экспонирования для однослойных и многослойных применений и даже дают возможность преодолеть некоторые из ограничений фотошаблонной технологии. Установки -MLA -позволят избавиться от потребности в фотошаблонах и сокращает цикл производства, что существенно сокращает затраты на производство или исследования.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Разработанная с акцентом на высокую производительность по доступной цене, установка MLA100 является идеальным решением для литографии многих приложений R &- D. Оптическая система, использующая высокоотражающие зеркали и DMDTM (Digital Micro Device) - предназначена для экспонирования структур размером до 1 мкм при скорости 50 мм²-/мин по фоторезисту, без необходимости использования фотошаблонов. Устранение фотошаблонов в литографическом процессе повысит гибкость и значительно сократит производственный цикл. MLA100 управляется мастер-программой (GUI), которая помогает оператору в течение всего процесса совмещения и экспонирования: загрузка подложки, выбор дизайна и экспонирование. Установка занимает малую площадь и требует только подключения электропитание и сжатого воздуха.
Применение установки -MLA100: -медицина. -MEMS, -микрооптика, полупроводники, сенсоры, датчики, -MOEMS, -исследование материалов, нанотрубки, графены и др.
Система может быть оснащена либо LED источником, работающим на длине волны 390 нм -с мощностью 10 Вт, либо UV LED источником работающим на длине волны 365 нм -с мощностью 10 Вт. Иточники устанавливаются в зависимости от применения.
Опции: -базовый 3D экспонирование для полутоновой шкалы экспонирования -(Basic Gray Scale Exposure Mode), антивибрационный стол.
Особенности
Минимальный топологически размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до -6 -х -6 -дюймов.
- Минимальный размер подложки: 5 х 5 мм2
Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до -Ø-100 мм
Точность совмещения (50x50 мм²- [3sigma, нм]) - - 1000 -нм.
- Камера для предварительно совмещения и микрокамера для точного совмещения
Время экспонирования области 100х100 мм²- - 200 минут. (около 3 часов)
Скорость экспонирования 50 мм2/мин. -
Источники излучения: -LED источник, 390 нм, 10 Вт, 10000 часов, UV -LED источник, 365 нм, 10 Вт, 10000 часов -(для стандартных и УФ-резистов таких как SU8)
- Погрешность позиционирования подложки: 20 нм-
- Работа с дизайнами форматов DXF, CIF, GDSII, Gerber
- Габаритные размеры: 630 -х 770 х 530 мм, вес: 100 кг-
Скачать брошюру MLA100 в PDF
Режим работы I
Минимальный размер элемента топологии для LED или UV LED источника, мкм 1,0 -
Скорость экспонирования (рисования), мм2/мин 50
Время экспонирования области 20х20 мм2, мин 8
Время экспонирования области 20х20 мм2, мин 50
Время экспонирования области 20х20 мм2, мин 200
Равномерность ширины линии -(3&sigma-), нм 200
Точность совмещения для 50х50 мм2 -, -(3&sigma-), нм 1000
Область письма (экспонирования), мм 125 х 125 или до -Ø-100 -
Производитель Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
Страна Германия
Единица измерения штук
id позиции 5406020
Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели -MLA100 -производства -Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) -представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования -(MLA - Maskless Aligners).
Установки бесмаскового совмещения и экспонирования серии -MLA -(Maskless Aligners) - -это высокопроизводительные системы прямого экспонирования специально разработанные для процессов совмещения и экспонирования без использования фотошаблонов (масок). Установки предлагают все возможности традиционной технологии совмещения и экспонирования для однослойных и многослойных применений и даже дают возможность преодолеть некоторые из ограничений фотошаблонной технологии. Установки -MLA -позволят избавиться от потребности в фотошаблонах и сокращает цикл производства, что существенно сокращает затраты на производство или исследования.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Разработанная с акцентом на высокую производительность по доступной цене, установка MLA100 является идеальным решением для литографии многих приложений R &- D. Оптическая система, использующая высокоотражающие зеркали и DMDTM (Digital Micro Device) - предназначена для экспонирования структур размером до 1 мкм при скорости 50 мм²-/мин по фоторезисту, без необходимости использования фотошаблонов. Устранение фотошаблонов в литографическом процессе повысит гибкость и значительно сократит производственный цикл. MLA100 управляется мастер-программой (GUI), которая помогает оператору в течение всего процесса совмещения и экспонирования: загрузка подложки, выбор дизайна и экспонирование. Установка занимает малую площадь и требует только подключения электропитание и сжатого воздуха.
Применение установки -MLA100: -медицина. -MEMS, -микрооптика, полупроводники, сенсоры, датчики, -MOEMS, -исследование материалов, нанотрубки, графены и др.
Система может быть оснащена либо LED источником, работающим на длине волны 390 нм -с мощностью 10 Вт, либо UV LED источником работающим на длине волны 365 нм -с мощностью 10 Вт. Иточники устанавливаются в зависимости от применения.
Опции: -базовый 3D экспонирование для полутоновой шкалы экспонирования -(Basic Gray Scale Exposure Mode), антивибрационный стол.
Особенности
Минимальный топологически размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до -6 -х -6 -дюймов.
- Минимальный размер подложки: 5 х 5 мм2
Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до -Ø-100 мм
Точность совмещения (50x50 мм²- [3sigma, нм]) - - 1000 -нм.
- Камера для предварительно совмещения и микрокамера для точного совмещения
Время экспонирования области 100х100 мм²- - 200 минут. (около 3 часов)
Скорость экспонирования 50 мм2/мин. -
Источники излучения: -LED источник, 390 нм, 10 Вт, 10000 часов, UV -LED источник, 365 нм, 10 Вт, 10000 часов -(для стандартных и УФ-резистов таких как SU8)
- Погрешность позиционирования подложки: 20 нм-
- Работа с дизайнами форматов DXF, CIF, GDSII, Gerber
- Габаритные размеры: 630 -х 770 х 530 мм, вес: 100 кг-
Скачать брошюру MLA100 в PDF
| Режим работы | I |
| Минимальный размер элемента топологии для LED или UV LED источника, мкм | 1,0 - |
| Скорость экспонирования (рисования), мм2/мин | 50 |
| Время экспонирования области 20х20 мм2, мин | 8 |
| Время экспонирования области 20х20 мм2, мин | 50 |
| Время экспонирования области 20х20 мм2, мин | 200 |
| Равномерность ширины линии -(3&sigma-), нм | 200 |
| Точность совмещения для 50х50 мм2 -, -(3&sigma-), нм | 1000 |
| Область письма (экспонирования), мм | 125 х 125 или до -Ø-100 - |
| Производитель | Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH |
| Страна | Германия |
| Единица измерения | штук |
| id позиции | 5406020 |
