Полуавтоматическая установка совмещения и экспонирования MDA-60MS-2
ціну уточнюйте
роздріб та опт
в наявності
☎ показати телефон
Додати у кошик
Новая полуавтоматическая установка - MDA-60MS-2 - производства -MIDAS SYSTEM (Корея) - прекрасный инструмент для использования в таких применениях как -MEMS, -оптоэлектроника, -FPD -панели, ВЧ устройства, -flip chip -устройства, -LED -и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость. - По запросу опция обратного совмещения с -CCD камерой. - - Обработка пластин до 200 мм. Перемещение столика полуавтоматическое при совмещении и фокусировке, автоматическое экспонирование. Особенности прецизионная точность совмещения 1 мкм Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 8&rsquo-&rsquo- (200мм). Специальные держатели подложек (кусочков по запросу) Прецизионный столик для совмещения и микроскоп Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования Мошность УФ излучения 1 кВт Эргономичный дизайн для удобного использования Управления с ПК с PLC Более 100 рецептов Система для компенсации «-клина засветки»- на воздушных подшипниках Низкая стоимость/высокое качество Опция -BSA -(обратного совмещения с -CCD -камерами) Опция -BA (bond alignment) -совмещение перед сваркой Опция NIL (наноимпринт) - Скачать брошюру в PDF Мощность лампы УФ источник света с мощностью 1 кВт Размер подложки кусочки, пластины до 8 дюймов, размер подложек 8х8 дюйма Точность 1 микрон Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом) Размер маски до 9 х 9 дюймов УФ лампа 1 кВт., -Опционально: 365 нм (UV-LED -модуль экспонирования) Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу. Размер однородного пучка 9,25" х 9,25" Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного п
Новая полуавтоматическая установка -MDA-60MS-2 -производства -MIDAS SYSTEM (Корея) -прекрасный инструмент для использования в таких применениях как -MEMS, -оптоэлектроника, -FPD -панели, ВЧ устройства, -flip chip -устройства, -LED -и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость. - По запросу опция обратного совмещения с -CCD камерой. - - Обработка пластин до 200 мм. Перемещение столика полуавтоматическое при совмещении и фокусировке, автоматическое экспонирование.
Особенности
прецизионная точность совмещения 1 мкм
Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 8&rsquo-&rsquo- (200мм).
Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
Мошность УФ излучения 1 кВт
Эргономичный дизайн для удобного использования
Управления с ПК с PLC
Более 100 рецептов
Система для компенсации «-клина засветки»- на воздушных подшипниках
Низкая стоимость/высокое качество
Опция -BSA -(обратного совмещения с -CCD -камерами)
Опция -BA (bond alignment) -совмещение перед сваркой
Опция NIL (наноимпринт) -
Скачать брошюру в PDF
Мощность лампы УФ источник света с мощностью 1 кВт
Размер подложки кусочки, пластины до 8 дюймов, размер подложек 8х8 дюйма Точность 1 микрон Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом) Размер маски до 9 х 9 дюймов УФ лампа 1 кВт., -Опционально: 365 нм (UV-LED -модуль экспонирования) Диапазон длин волн засветки 350-450 нм, или другие по запросу. Размер однородного пучка 9,25" х 9,25" Оптическое зрение (микроскоп) Микроскоп двойного поля -(90x -- -500x -увеличение, или 180-1000х по запросу), -CCD -камера Однородность пучка <- +/-5% Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная -25-30 -мВт/см2 Режим управления с ПК -(PLC -контроль) Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 -сек с шагом 100 мс. Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по -z ±- 10 мм или другой по запросу) и по углу &theta- (±- 4°-). Z и -&theta- моторизованы. Вес подложек до 2 кг. Выравнивание Компенсация ошибки клина Автоматическое определение края - датчик давлениея Методы экспонирования Мягкий -контакт, -жесткий контакт, -вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором -(регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО. Стол Антивибрационный стол Опции
Новая полуавтоматическая установка -MDA-60MS-2 -производства -MIDAS SYSTEM (Корея) -прекрасный инструмент для использования в таких применениях как -MEMS, -оптоэлектроника, -FPD -панели, ВЧ устройства, -flip chip -устройства, -LED -и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость. - По запросу опция обратного совмещения с -CCD камерой. - - Обработка пластин до 200 мм. Перемещение столика полуавтоматическое при совмещении и фокусировке, автоматическое экспонирование.
Особенности
прецизионная точность совмещения 1 мкм
Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 8&rsquo-&rsquo- (200мм).
Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
Мошность УФ излучения 1 кВт
Эргономичный дизайн для удобного использования
Управления с ПК с PLC
Более 100 рецептов
Система для компенсации «-клина засветки»- на воздушных подшипниках
Низкая стоимость/высокое качество
Опция -BSA -(обратного совмещения с -CCD -камерами)
Опция -BA (bond alignment) -совмещение перед сваркой
Опция NIL (наноимпринт) -
Скачать брошюру в PDF
Мощность лампы
УФ источник света с мощностью 1 кВт
Размер подложки
кусочки, пластины до 8 дюймов, размер подложек 8х8 дюйма
Точность
1 микрон
Разрешение
1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом)
Микроскоп двойного поля -(90x -- -500x -увеличение, или 180-1000х по запросу), -CCD -камера
Однородность пучка
<- +/-5%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм
Максимальная -25-30 -мВт/см2
Режим управления
с ПК -(PLC -контроль)
Регулируемое время экспонирования
0,1 to 999,9 -сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложек
Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по -z ±- 10 мм или другой по запросу) и по углу &theta- (±- 4°-). Z и -&theta- моторизованы. Вес подложек до 2 кг.
Выравнивание
Компенсация ошибки клина Автоматическое определение края - датчик давлениея
Методы экспонирования
Мягкий -контакт, -жесткий контакт, -вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором -(регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО.
